Rotary vane pump units

La combinazione di pompe a membrana chimiche VARIO^® a velocità controllata ed il nuovo sistema di controllo del vuoto VACUU·SELECT rendono le pompe chimiche VARIO^® select la soluzione ideale per processi chimici che richiedono un vuoto preciso, come evaporazione rotativa, essiccazione sottovuoto o concentrazione di vuoto.

• Alta resistenza chimica e quindi ideale per il pompaggio di gas aggressivi e vapori.
• Tempi di processo brevi e buon funzionamento grazie all"impostazione ottimale della pressione di processo tramite il sistema di controllo VACUU-SELECT
• La tecnologia VARIO^® controlla il vuoto in modo preciso ed efficiente tramite velocità del motore.
• Consumo di energia, manutenzione e rumore sono eccezionalmente bassi
• Il collettore di uscita ed il condensatore di solvente si combinano per impedire l"emissione di vapore di solvente nel laboratorio, consentendo un recupero quasi completo dei solventi.

Versioni del cavo di alimentazione di uno specifico paese sono disponibili su richiesta.

Alternativa Sistemi da vuoto PC 3001 VARIO® select con condensatore Peltronic® Alternativa Unità pompa chimica e sistemi per vuoto

ATEX chemistry diaphragm pumps offer all advantages of oil-free chemistry diaphragm pumps. Typical applications are rotary evaporators and drying ovens with potentially explosive atmospheres. The ATEX approval includes the interior of the pump (in contact with pumped gases) as well as the surrounding area of the pump.

• Outstanding chemical resistance and superior vapor tolerance
• Mainly made of antistatic materials
• Flame proof motor with integrated, self-locking overload and excess temperature protection for direct 230V / 50Hz single phase power supply
• Overpressure safety relief valves internally and at outlet
• With separate gas ballast connection part for use of inert gas
• Safety diaphragm technology with option for inert gas purge and detection of diaphragm breakage

ATEX compliance:
Pump chamber (pumped gases): II 2G IIC T3 X
Exterior space (pump environment): II 2G IIB T4 X (with inert gas purging) / II 3G IIB T4 X (without inert gas purging)

Speed-controlled ATEX VARIO vacuum pumps on request.

Specifications
MZ 2C EX
Vacuum inlet:	Small flange KF DN 16
Pressure outlet:	Small flange KF DN 16
MV 10C EX / MD 4C EX
Vacuum inlet:	Small flange KF DN 25
Pressure outlet:	Kleinflansch KF DN 16
MZ 2C EX+AK+EK / MD 4C EX+AK+EK
Vacuum inlet:	Small flange KF DN 16
Pressure outlet:	Tubing nozzle DN 8-10 mm
Cooling water connection:	2 x tubing nozzle DN 6-8 mm

La costruzione di una linea da vuoto multi utenza consente di utilizzare una sola pompa per gestire piu" postazioni di lavoro, ciascuna in grado di operare contemporaneamente e indipendentemente dalle altre. Le postazioni possono essere a vuoto controllato, con rubinetto dotato di elettrovalvola comandata da un controllore di vuoto, oppure a vuoto di linea con rubinetto standard. Una soluzione pratica ed economica per più utilizzatori di vuoto in un singolo laboratorio.